[发明专利]光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法在审
| 申请号： | 202110391350.5 | 申请日： | 2021-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN113359391A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 杨立柏;赖韦翰;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F1/56 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 赵艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： |
本发明涉及光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法。具体地，在光致抗蚀剂层中形成图案的方法包括在基材上方形成光致抗蚀剂层，将光致抗蚀剂层选择性地暴露于光化辐射，形成潜在图案。通过施加显影剂来使潜在图案显影以形成图案。光致抗蚀剂层包含光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含如下聚合物。 |
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| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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