[发明专利]一种极坐标膜厚变化掩模版的设计方法在审
| 申请号： | 202110399065.8 | 申请日： | 2021-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN113088878A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 任海峰;金海俊 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 周宇凡 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及涂层制作技术领域，尤其是一种极坐标膜厚变化掩模版的设计方法，以基板的旋转中心为极点建立极坐标，在所述极坐标的极轴上设置所述基板上的膜厚变化区域所对应的半径；在半径范围内对所述极坐标进行一定数量的半径分割以及一定数量的角度分割；按照各半径分割点所对应的所述掩模版的各遮挡弧度，以样条曲线或直线连接各半径分割线与各角度分割线之间的交点从而形成所述掩模版的边界线。本发明的优点是：实现掩模版形状的快速设计，同时保证掩模版的设计精度满足膜厚变化的需要；可实现掩模版形状的快速调整，适应性强，可适用于不同膜厚变化要求的掩模版间的快速变换；使用方便，效率高，大大节约设计时间，利于工艺实施，适于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 坐标 变化 模版 设计 方法 | ||
【主权项】：
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