[发明专利]光罩的夹持装置在审
申请号: | 202110414347.0 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN113126419A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 赵晴晴 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/66 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 周修文 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种光罩的夹持装置,包括夹持组件、框体与手柄。夹持组件设置于框体上,夹持组件用于夹住光罩的侧边。框体的其中一框边的中部部位上设有连接部。手柄与连接部转动相连,手柄上设有第一驱动机构。第一驱动机构与连接部相连,第一驱动机构用于带动连接部转动。若需要处理光罩的表面问题,则通过夹持组件夹住光罩的侧边,手持手柄借助光罩的夹持装置将光罩从容器盒中取出,然后以手柄的中心轴为转动中心,由第一驱动机构带动连接部转动,便能实现将框体连带框体上的光罩从glass面翻转到pellicle面,即无需工作人员手持手柄并通过手腕来带动框体及其上的光罩翻转,这样能够更加便于调整光罩的翻转位置,翻转动作时平稳,不容易出现刮伤现象。 | ||
搜索关键词: | 夹持 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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