[发明专利]一种铜、钛叠层金属蚀刻液及制备方法和实时净化系统在审

专利信息
申请号: 202110426939.4 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113355673A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民 申请(专利权)人: 江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18;C23F1/26;C23F1/08;C23F1/46
代理公司: 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333 代理人: 汤俊明
地址: 212000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种铜、钛叠层金属蚀刻液,包括主剂和辅剂。主剂原料包含以下质量百分比:过氧化物1~20%,氟源0.01~0.5%,无机酸0.1~10%,胺化物1~30%,稳定剂0.01~1%,氮唑类化合物0.01~0.5%,水余量。辅剂原料包含以下质量百分比:氟源0.1~5%,无机酸1~15%,胺化物10~40%,氮唑类化合物0.1~5%,水余量。本发明申请制备的金属蚀刻液不含有磷元素,氟离子含量低,具有良好的环境友好性,且能够在铜、钛等金属的刻蚀过程中具有良好的刻蚀形貌和较高的金属离子负载能力,能同时满足超高精细和中小尺寸的显示产品的蚀刻要求。本发明还提供了一种蚀刻液的实时净化系统,能够实时的实时净化蚀刻液废液进行实时净化再利用,有效提高了蚀刻液的利用效率,适宜在蚀刻液领域推广,具有广阔的发展前景。
搜索关键词: 一种 钛叠层 金属 蚀刻 制备 方法 实时 净化系统
【主权项】:
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