[发明专利]喷嘴单元、液处理装置以及液处理方法在审
申请号: | 202110429187.7 | 申请日: | 2021-04-21 |
公开(公告)号: | CN113560059A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 三浦拓也;田中公一朗;高桥彰吾;宫窪祐允;吉原健太郎 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | B05B7/00 | 分类号: | B05B7/00;B05B13/02;B05D3/04;G03F7/16;G03F7/30 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供喷嘴单元、液处理装置以及液处理方法。使基板面内的温度分布的均匀性提高。本公开的一技术方案所涉及的喷嘴单元是一种对基板施加使用了溶液的液处理的液处理装置用的单元。该喷嘴单元包括气体喷嘴,该气体喷嘴具有:喷出流路,其供气体流通;以及喷出口,其将在喷出流路流动的气体朝向基板的表面喷出。喷出口形成为在沿着表面的第1方向上延伸。喷出流路的第1方向上的宽度随着靠近喷出口而变大,以使来自喷出口的气体呈放射状喷出。 | ||
搜索关键词: | 喷嘴 单元 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110429187.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。