[发明专利]一种考虑统计修正的荧光染色薄膜厚度测量标定方法

摘要

本发明提供了一种考虑统计修正的荧光染色薄膜厚度测量标定方法，能够显著减小由荧光强度的随机性所带来的测量误差，能有效提高荧光染色薄膜厚度的测量精度以及量程。基于统计学回归分析方法得到标定系数，实现对随机误差的修正。以若干不同标准厚度薄膜的荧光照片作为样本，使用分组平均拟合法或最小二乘法，构建标定系数方程组并求解，得到标定系数表。对于待测厚度薄膜的荧光照片，基于标定系数表以及薄膜厚度与荧光强度之间的关系式，计算得到每个像素单元对应的厚度。