[发明专利]一种基于Nystrom谱聚类的超像素抠图方法在审
| 申请号： | 202110434415.X | 申请日： | 2021-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN113298821A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 贾洪杰;毛启容;王良君;宋和平;马忠臣 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | G06T7/11 | 分类号： | G06T7/11;G06K9/62 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于Nystrom谱聚类的超像素抠图方法，针对传统的谱聚类超像素分割方法计算复杂度过高，不适合大尺寸图像处理的问题，利用Nystrom近似技术改进谱聚类，提高超像素分割的效率和质量。本发明首先在待分割图像上随机抽样，选取少量像素点样本；然后计算样本相似性矩阵，并对矩阵归一化；接着利用Nystrom近似技术，计算Laplacian矩阵的近似正交特征向量；再使用k‑means算法对特征空间中的代表点聚类，生成多个超像素；最后根据目标物体的轮廓，通过超像素分离前景目标与背景。本发明为Nystrom谱聚类设计了新的特征求解方法，使所得的近似特征向量满足正交条件，用于产生贴合物体形状的超像素。本发明可以降低超像素分割的计算复杂度，实现更高效、更精确的图像抠图。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 nystrom 谱聚类 像素 方法 | ||
【主权项】：
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