[发明专利]基于二硫化钨/锑化镓结型场效应晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110436209.2 申请日: 2021-04-22
公开(公告)号: CN113224143B 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 程子超;剪宇轩;宋秀峰;顾宇;陈翔 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: H01L29/267 分类号: H01L29/267;H01L29/80;H01L21/335;B82Y40/00;B82Y10/00
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 刘海霞
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于WS2/GaSb结型场效应晶体管及其制备方法。所述的结型场效应晶体管包括衬底、N型WS2薄膜、P型GaSb纳米线、源电极、漏电极和栅电极;P型GaSb纳米线设于衬底的表面,源电极与漏电极设于P型GaSb纳米线表面的两端,N型WS2薄膜设于P型GaSb纳米线表面且位于源电极与漏电极之间;栅电极设于N型WS2薄膜的表面且位于源电极与漏电极之间。本发明将GaSb和WS2二维半导体应用于JFET中,确保了抑制界面缺陷的产生,减少了界面态对载流子输运的影响,并借助JFET没有复杂介电工程的优势,降低器件的亚阈值摆幅,提高开关比和电流密度。
搜索关键词: 基于 硫化 锑化镓结型 场效应 晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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