[发明专利]一种高稳定的CMP抛光液有效
| 申请号： | 202110444766.9 | 申请日： | 2021-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN113214741B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 王继宝;周翠苹 | 申请（专利权）人： | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 魏坤宇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及化学机械抛光的领域，具体公开了一种高稳定的CMP抛光液。高稳定的CMP抛光液，每100重量份的抛光液中包括磨料20‑50份、pH调节剂0.3‑8份、聚醚多元醇2‑5份、羟基丁酸0.005‑0.008份、表面活性剂0.01‑0.15份、余量为水。本申请的高稳定的CMP抛光液具有抛光速率稳定性高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 稳定 cmp 抛光 | ||
【主权项】：
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