[发明专利]一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 202110445740.6 | 申请日： | 2021-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN113201284B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 王继宝;周翠苹 | 申请（专利权）人： | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/14;C09G1/16;C09G1/18 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 魏坤宇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及化学机械抛光的领域，具体公开了一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法。高抛光度CMP抛光液，每100重量份的抛光液中包括磨料10‑45份、pH调节剂2‑7份、表面活性剂0.03‑0.3份、水溶性环糊精0.5‑2.5份、聚乙二醇0.03‑0.15份、水补足100份；其制备方法为：将磨料与水混合均匀后依次投入水溶性环糊精和聚乙二醇混合均匀，接着投入pH调节剂和表面活性剂混合均匀制得高抛光度CMP抛光液。本申请的高抛光度CMP抛光液具有抛光度高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 cmp 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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