[发明专利]一种X射线折射闪耀光栅及制备方法有效
| 申请号： | 202110449952.1 | 申请日： | 2021-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN113205899B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 魏来;陈勇;范全平;杨祖华;刘东晓 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G21K1/02 | 分类号： | G21K1/02 |
| 代理公司： | 成都佳划信知识产权代理有限公司 51266 | 代理人： | 史姣姣 |
| 地址： | 621000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种X射线折射闪耀光栅，包括从下至上依次堆叠的数层光栅基板；任一光栅基板包括支撑基底，以及周期阵列排布、且结构相同的多个微纳棱柱。通过上述方案，本发明具有高衍射效率、高角色散率、高信噪比等优点，在X射线光学技术领域具有很高的实用价值和推广价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 折射 闪耀 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
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