[发明专利]用于检测薄膜的污染的系统和方法在审
申请号: | 202110451807.7 | 申请日: | 2021-04-26 |
公开(公告)号: | CN113203714A | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 程仲良 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/63 | 分类号: | G01N21/63;G01N21/84;G01N21/94;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 薄膜沉积系统在晶圆上沉积薄膜。辐射源利用激发光照射晶圆。发射物传感器检测响应于激发光的来自晶圆的发射光谱。基于机器学习的分析模型分析光谱,并且基于光谱检测薄膜的污染。本发明的实施例还涉及用于检测薄膜的污染的系统和方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 检测 薄膜 污染 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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