[发明专利]一种钽靶材及其制备方法在审
| 申请号： | 202110454955.4 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113136554A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;江胜君 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F3/04;B22F3/15 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种钽靶材及其制备方法，所述制备方法包括以下步骤：(1)装填并压实钽粉，经过冷等静压处理，得到钽生坯；(2)将步骤(1)所得钽生坯进行第一脱气处理，经过700‑1300℃的第一热等静压处理，得到第一钽坯料；(3)将步骤(2)所得第一钽坯料进行第二脱气处理，经过1300‑1600℃的第二热等静压处理，得到第二钽坯料；(4)将步骤(3)所得第二钽坯料进行机加工，得到钽靶材。本发明提供的方法适用于钽靶材的制备，充分提升了钽靶材的致密度，优化了内部组织结构和机械加工性能，满足了半导体溅射用钽靶材的使用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 钽靶材 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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