[发明专利]黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵在审
| 申请号： | 202110457761.X | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN113589645A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 辻康人;杉江俊辅;大泊研;井上拓也 | 申请（专利权）人： | 阪田油墨株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;洪欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种黑矩阵用抗蚀剂组合物，由其能够形成即使施以高温且长时间的后烘之后表面电阻值也不降低的黑矩阵。所述黑矩阵用抗蚀剂组合物包含黑色着色剂、具有羧基的碱溶性树脂、光聚合引发剂、有机溶剂以及噁嗪化合物，所述噁嗪化合物是下列通式(1)和/或(2)所示的化合物。在通式(1)中，R |
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| 搜索关键词： | 矩阵 用抗蚀剂 组合 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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