[发明专利]一种化学机械抛光后清洗液及其制备方法有效
| 申请号： | 202110459996.2 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN113186543B | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 王溯;马丽;史筱超;王真 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/20 | 分类号： | C23G1/20;C23G1/18 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光后清洗液及其制备方法。具体公开了一种清洗液，其原料包括下列质量分数的组分：0.01％‑25％的强碱、0.01％‑30％的醇胺、0.001％‑1％的抗氧化物、0.01％‑0.1％的铜配合物、0.01％‑10％的缓蚀剂、0.01％‑10％的螯合剂、0.01％‑5％的表面活性剂和28.9％‑89.9％的水，各组分质量分数之和为100％；所述铜配合物为1‑(苯并三氮唑‑1‑甲基)‑1‑(2‑甲基苯并咪唑)铜配合物。本发明的清洗液具有兼顾清洗、缓蚀和BTA的去除的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 清洗 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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