[发明专利]一种腐蚀锗片的方法有效
| 申请号： | 202110461579.1 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN113174597B | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 顾小英;赵青松;牛晓东;狄聚青 | 申请（专利权）人： | 清远先导材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/24 | 分类号： | C23F1/24 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 付丽 |
| 地址： | 511517 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种腐蚀锗片的方法，包括以下步骤：A)将厚度差在±0.025mm内的锗片固定在同一卡槽内，然后将所述放有锗片的卡槽置于腐蚀液中，进行腐蚀；所述腐蚀液为体积比为(2～5):1的硝酸和氢氟酸的混合液；B)待腐蚀液开始冒红烟，在腐蚀液中缓慢加入纯水，直至红烟变黄烟，继续腐蚀1～2min；C)使用纯水稀释腐蚀液，然后取出卡槽，清洗锗片并干燥。本发明在腐蚀液开始冒红烟的时候缓慢加入纯水，使反应前期锗片可快速反应，并防止反应后期温度过高、反应过于激烈而导致的锗片表面发黑。本发明中的方法在保证腐蚀效率的同时，解决了现有酸腐蚀中反应速率难以控制，锗片表面易发黑的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 腐蚀 方法 | ||
【主权项】：
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