[发明专利]一种用于无掩膜曝光的投影模组有效
| 申请号： | 202110463405.9 | 申请日： | 2021-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN113156776B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 桂立 | 申请（专利权）人： | 苏州赛源光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 葛燕婷 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于无掩膜曝光的投影模组，包括前透镜组、光阑以及后透镜组，光阑位于前透镜组及后透镜组之间，前透镜组包括依次设置的第一透镜，第一透镜为凸凹透镜；第二透镜，第二透镜为凸平透镜；第三透镜，第三透镜为凸凹透镜；第四透镜，第四透镜为平凸透镜；后透镜组包括依次设置的第五透镜，第五透镜为凹平透镜；第六透镜，第六透镜为凹凸透镜；第七透镜，第七透镜为凹凸透镜；第八透镜，第八透镜为凸平透镜。通过上述设计，本发明用于无掩膜曝光的投影模组能够实现370nm‑410nm范围内的消色差成像，成像效果好，透过率高、畸变低、物像远心度小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 无掩膜 曝光 投影 模组 | ||
【主权项】：
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