[发明专利]一种铌酸锂晶体化学机械抛光液在审
| 申请号： | 202110466472.6 | 申请日： | 2021-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN113185920A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 郭江;景浩;张鹏飞;司立坤 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学;大连理工大学宁波研究院 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 李晓亮 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供一种铌酸锂晶体化学机械抛光液，属于精密/超精密加工技术领域。铌酸锂化学机械抛光液的pH为9.5‑10，包含溶质和溶剂两部分。其中，溶剂为去离子水。按溶质总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：10～20wt％硅溶胶，1～2wt％氢氧化钾，0.02～0.05wt％表面活性剂，其余为pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。本发明提供的化学机械抛光液腐蚀作用适中，在保证抛光液化学作用前提下，能够获得超光滑、无损伤的铌酸锂表面；氧化石墨烯可以促使工件表层氧化并形成软化层，加快工件表面的抛光效率，缩短抛光时间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 铌酸锂 晶体化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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