[发明专利]一种高通量荷正电纳滤膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110470255.4 申请日: 2021-04-28
公开(公告)号: CN113262644B 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 施盈盈;谭惠芬;程新;陈可可;潘巧明 申请(专利权)人: 蓝星(杭州)膜工业有限公司
主分类号: B01D69/12 分类号: B01D69/12;B01D69/02;C02F1/44;C02F101/10;C02F101/30;C02F103/00;C02F103/34
代理公司: 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 代理人: 齐胜杰
地址: 311106 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种新型的高通量荷正电纳滤膜及其制备方法。所述新型的高通量荷正电纳滤膜包括多孔支撑层和荷正电纳滤选择层;荷正电纳滤选择层由水相溶液和油相溶液通过界面聚合反应后再经热处理形成;所述水相溶液是含有亲水性多胺单体和水相添加剂的水溶液,所述水相添加剂包括表面活性剂和质子接收剂;所述油相溶液为酰氯单体溶于有机溶剂的溶液。通过本发明制备方法制备的纳滤膜通量大,性能稳定,除盐率高,对正电离子有较高的去除率。此外,本发明提供的制备方法简单易控,重现性较好,制备时间短,制备成本低廉,有利于实现工业化高通量荷正电纳滤膜的生产。
搜索关键词: 一种 通量 电纳 滤膜 及其 制备 方法
【主权项】:
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