[发明专利]一种基于浅刻圆盘结构的高品质因子介质纳米天线及其应用在审
| 申请号： | 202110472100.4 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN113138441A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 李强;马彬泽;仇旻 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B6/122 |
| 代理公司： | 杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙) 33315 | 代理人： | 黄燕 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于浅刻圆盘结构的高品质因子介质纳米天线及其在光谱选择中的应用。该介质纳米天线包括超薄硅膜以及设置在超薄硅膜上的硅圆盘周期阵列。本发明的介质纳米天线，采用对光具有极低吸收的硅作为介质材料，可以实现无损地传递光学信号。其低损耗的特性可在获得较高光谱选择性的同时减小光学信号的衰减。并通过浅刻圆盘结构的磁谐振激发波导中的束缚模式形成导模共振，可以实现高品质因子、极窄带宽(小于2纳米)的波长选择。本发明的介质纳米天线基于绝缘体上硅，其制备与微电子互补金属氧化物半导体工艺兼容，可以实现大面积低成本制备。采用浅刻圆盘结构制备的介质纳米天线可以在近红外波段实现自由空间光的光谱选择，其品质因子能够达到864。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 圆盘 结构 品质 因子 介质 纳米 天线 及其 应用 | ||
【主权项】：
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