[发明专利]阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202110474070.0 申请日: 2021-04-29
公开(公告)号: CN113345915A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 栗芳芳;陆相晚;郭威;操彬彬;陈鹏 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1339;G02F1/1362
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;王存霞
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本申请实施例提供了一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置,该阵列基板包括有机膜层,其中,用于实现第一金属结构和第二金属结构搭接的第一搭接孔贯穿该有机膜层,通过利用第一隔垫物将GOA区域的第一搭接孔进行填充,能够防止在高温高湿信赖性评价中水汽经由第一搭接孔进入有机膜层,从而提升阵列基板的抗水氧入侵能力以提升包含有机膜层的产品的信赖性;并且,由于第一隔垫物和常规隔垫物可同时形成,因此无需再增加工序,能够有效控制生产成本。
搜索关键词: 阵列 制作方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
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