[发明专利]竖直相邻器件之间带隔离部的半导体装置及电子设备有效

专利信息
申请号: 202110477558.9 申请日: 2021-04-29
公开(公告)号: CN113257815B 公开(公告)日: 2023-01-10
发明(设计)人: 朱慧珑 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L27/092
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 公开了一种竖直相邻器件之间带隔离部的半导体装置及包括这种半导体装置的电子设备。根据实施例,该半导体装置可以包括:衬底;依次叠置在衬底上的第一竖直型半导体器件和第二竖直型半导体器件,第一竖直型半导体器件和第二竖直型半导体器件各自包括在竖直方向上依次叠置的第一源/漏区、沟道区和第二源/漏区;以及用于电隔离第一竖直型半导体器件与第二竖直型半导体器件的隔离结构,其中,隔离结构包括pn结。
搜索关键词: 竖直 相邻 器件 之间 隔离 半导体 装置 电子设备
【主权项】:
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