[发明专利]一种新型硅基电光调制器及其制备工艺在审
申请号: | 202110494450.0 | 申请日: | 2021-05-07 |
公开(公告)号: | CN113281919A | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 崔积适 | 申请(专利权)人: | 三明学院 |
主分类号: | G02F1/025 | 分类号: | G02F1/025;G02B6/12;G02B6/136 |
代理公司: | 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 | 代理人: | 杨唯 |
地址: | 365000 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种新型硅基电光调制器及其制备工艺,涉及电光调制器领域。制备工艺包括在基底蚀刻形成硅波导区和slab区,硅波导区的两侧均设置有slab区,两侧的slab区均与硅波导区相连;对slab区进行氧原子注入并退火。这使新型硅基电光调制器通过在硅结构中引入梯度应力而打破了中心反演对称结构对硅基电光调制器的功能限制,大大提高了硅基调制器的调制效率,有效减小了器件的尺寸、提高了带宽、降低了插损。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 电光 调制器 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三明学院,未经三明学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110494450.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。