[发明专利]具有杂散光减少的有源像素设备组件及其涂层的制造方法在审

专利信息
申请号: 202110495330.2 申请日: 2021-05-07
公开(公告)号: CN113675226A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 范纯圣;林蔚峰 申请(专利权)人: 豪威科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋融冰
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种具有杂散光减少的有源像素设备组件和一种用于制造用于有源像素设备组件的减少杂散光的涂层的方法。有源像素设备组件包括:有源像素设备,其包括半导体基板和有源像素的阵列;透光基板,其设置在有源像素设备的光接收侧上;以及粗糙的不透明涂层,其设置在透光基板的第一表面上并形成与有源像素的阵列对准的孔,其中粗糙的不透明涂层是粗糙的,以便抑制从至少一侧入射在其上的光的反射。用于制造用于有源像素设备组件的减少杂散光的涂层的方法包括:在透光基板上沉积不透明涂层,使得不透明涂层形成透光孔;并且使不透明涂层粗糙化以形成粗糙的不透明涂层,所述粗糙化包括用碱性溶液处理不透明涂层。
搜索关键词: 具有 散光 减少 有源 像素 设备 组件 及其 涂层 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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