[发明专利]可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202110500236.1 | 申请日： | 2021-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN113235088B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 张晋;白景元;张美林;杨大龙;李晓阳;范龙毅;杨洲;管仁国 | 申请（专利权）人： | 大连交通大学 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C4/08;C23C4/134;C23C24/00 |
| 代理公司： | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人： | 梁静 |
| 地址： | 116000 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层及其制备方法，涉及金属材料加工技术领域。所述制备方法包括以下步骤：提供基底；在所述基底上修饰亲铝液涂层；在所述亲铝液涂层上沉积牺牲模板；在所述牺牲模板上修饰疏铝液涂层；所述疏铝液涂层是由阵列排布的疏铝涂层单元组成；将所述牺牲模板刻蚀后暴露出部分基底上层的亲铝液涂层，即在基底上获得所述亲疏双效阵列涂层。本发明通过在换热壁面上构筑亲疏相间结构，破坏固‑液间三相接触线的连续性，降低接触角滞后，促进铝熔体的铺展，提高成膜率。 | ||
| 搜索关键词： | 促进 铝熔体 铺展 亲疏 阵列 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连交通大学，未经大连交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110500236.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种润滑结构及制砂机
- 下一篇：一种气体发生装置
- 同类专利
- 专利分类
