[发明专利]半导体清洗设备及其清洗液分配机构有效
申请号: | 202110521879.4 | 申请日: | 2021-05-13 |
公开(公告)号: | CN113198785B | 公开(公告)日: | 2023-10-13 |
发明(设计)人: | 赵艳霞 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;王婷 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请实施例提供了一种半导体清洗设备及其清洗液分配机构。该清洗液分配机构包括:主管路组件及多个支管路组件,多个支管路组件与多个工艺腔室一一对应设置;主管路组件包括进液管路及出液管路,进液管路与半导体清洗设备的清洗液供给装置连通,进液管路与出液管路可通断连接;每个支管路组件均与进液管路及出液管路可通断连接,并且与对应的工艺腔室连接,支管路组件用于可选择的与进液管路及工艺腔室连通,或者与进液管路及出液管路连通。本申请实施例实现了多个工艺腔室同时工艺或单独工艺时,进液管路及各支管路组件的流量及压力均匀稳定,从而大幅提高应用本申请实施例的半导体清洗设备的工艺良率。 | ||
搜索关键词: | 半导体 清洗 设备 及其 分配 机构 | ||
【主权项】:
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