[发明专利]一种选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202110528120.9 | 申请日： | 2021-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN113351248A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 高瑞霞;田雪蒙;王悦;田家豪;屈雨瑶;唐羽;卢晨迪 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | B01J31/06 | 分类号： | B01J31/06;C08G73/06;C08J9/26;C02F1/30;C02F101/34;C02F101/38;C08L79/04 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 范巍 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物及其制备方法和应用，属于可见光催化技术领域。本发明首先采用溶剂热法一步合成溴氧化铋微球；其次，将酸性橙和溴氧化铋微球加入到水溶液中，得到模板‑载体复合物体系；然后，将吡咯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、偶氮二异丁腈及三氯甲烷溶液混合，加入到模板‑载体复合物体系的水溶液中，通入氮气，加热回流，进行聚合反应得到固态聚合物；最后，将固态聚合物经离心、洗脱、干燥后，制得基于溴氧化铋微球的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物。本发明制得的选择性光降解酸性橙分子印迹聚合物，其粒径均一、稳定性好、分散性好，对酸性橙的选择性光降解效率高，且重复利用性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 选择性 光降解 酸性 分子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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