[发明专利]基板处理装置和参数获取方法在审
申请号: | 202110528835.4 | 申请日: | 2021-05-14 |
公开(公告)号: | CN113707529A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 山田和人;远藤宏纪 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种基板处理装置和参数获取方法,用于提高加热器的温度的控制精度。基板处理装置具备:加热器电阻器;数字滤波器,其对检测电压和检测电流中的至少一方进行滤波,所述检测电压是被设为施加于加热器电阻器的电压来检测出的数字电压值,所述检测电流是以将根据所述加热器电阻器和流过所述加热器电阻器的电流计算出的电压转换为数字电压值的方式来检测的;以及控制部,其使用检测电压和检测电流中的至少一方通过数字滤波器而被进行了滤波的检测电压和检测电流,来控制加热器电阻器的温度。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 参数 获取 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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