[发明专利]选择性催化还原系统有效
| 申请号： | 202110533908.9 | 申请日： | 2018-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN113250794B | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 李俊荣;朴钟赫;崔峻源;刘昶埙;林艺勋 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | F01N3/28 | 分类号： | F01N3/28;F01N3/10;F01N3/20;F01N3/035 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李琳;王伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明说明了一种通过在选择性催化还原系统中的通常发生流量偏差的区域中包括挡板构件来改善流体的流量偏差的技术。 | ||
| 搜索关键词： | 选择性 催化 还原 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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