[发明专利]单片式超短焦距的成像透镜、制备方法和近眼穿戴式系统有效
申请号: | 202110533974.6 | 申请日: | 2021-05-17 |
公开(公告)号: | CN113311518B | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 尹勇健 | 申请(专利权)人: | 广州市焦汇光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B3/02 | 分类号: | G02B3/02;G02B27/00;G02B27/01 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 赵娜 |
地址: | 510000 广东省广州市番*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种单片式超短焦距的成像透镜、制备方法和近眼穿戴式系统,基于折射产生像差、低折射率,大阿贝数材料像差小、反射无像差以及平行无焦距透镜无像差的原理设置一片凹凸透镜,对凹凸透镜的两个曲面进行非球面设计和优化,得到凹面R1和凸面R2的比值为0.85≤R1/R2≤0.95,凹凸透镜开口半径D与凸面R2的比值为0.7≤D/R2≤0.85,凹凸透镜的最大厚度H与最小厚度h的比值为1.25≤H/h≤1.35,入射光线从凹面进入凹凸透镜,在凹面产生折射,在凹凸透镜内部进行反射,反射光线在凸面折射后出射成像至目标面。本发明只需要一片凹凸透镜,结构简单,通过设置凹面和凸面、开口半径与凸面、最大厚度与最小厚度的比值,在超短焦距的情况下得到畸变小于1.5%成像质量。 | ||
搜索关键词: | 单片 超短 焦距 成像 透镜 制备 方法 穿戴 系统 | ||
【主权项】:
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