[发明专利]带低反射膜的基体及其制造方法有效
| 申请号： | 202110539021.0 | 申请日： | 2017-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN113391382B | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 藤井健辅 | 申请（专利权）人： | AGC株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 杨青;安翔 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及带低反射膜的基体及其制造方法。本发明提供一种即使在露出侧面而配置的正面基板等中，在视觉辨认时，其主面与侧面之间的反射光、颜色的变化也少，具有高显示性的带低反射膜的基体。一种带低反射膜的基体(10)，其为具有透明基体(11)、设置于透明基体(11)的一个主面的第1低反射膜(12)、以及设置于透明基体(11)的侧面的第2低反射膜(13)的带低反射膜的基体，其中，设置于一个主面的第1低反射膜(12)的光反射率Rtot为1.5％以下，且设置于侧面的第2低反射膜(13)的光反射率Rs为2.5％以下，色度a |
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| 搜索关键词： | 反射 基体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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