[发明专利]半导体制程设备的示踪气体检测方法在审

专利信息
申请号: 202110540367.2 申请日: 2021-05-18
公开(公告)号: CN113375870A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 高磊;孙文彬;刘祥祥;袁会勇;杨炯;柏佳磊;黄海涛;马先宏 申请(专利权)人: 国核电站运行服务技术有限公司
主分类号: G01M3/04 分类号: G01M3/04
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 李双娇
地址: 200233 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体制程设备检漏技术领域,尤其涉及一种半导体制程设备的示踪气体检测方法,包括步骤一、确定通风气室内的模拟泄漏点,将示踪气体源接至模拟泄漏点;步骤二、测量并调节通风气室内的负压和排气流量,使其均满足设定条件;步骤三、测量并调节环境风速和示踪气体环境本底浓度,使其均满足设定条件;步骤四、开启示踪气体源,以设定注入流量向模拟泄漏点释放示踪气体;步骤五、在通风气室内的示踪气体达到平衡后,在设定取样点进行多次取样,然后在关闭示踪气体源后进行最后一次取样;步骤六、对取得的样品进行浓度分析,根据样品中的示踪气体浓度最大值判断通风气室的泄漏情况是否合格。具有明确的测试流程,可重复性和精确性高。
搜索关键词: 半导体 设备 气体 检测 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国核电站运行服务技术有限公司,未经国核电站运行服务技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110540367.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top