[发明专利]要因推定系统以及装置

摘要

本发明的课题在于，即使在实际的制造现场产生的、针对不良的要因的对策未必是一对一的关系(不一致)、现场的对策未必正确的情况下，也高精度地推定不良的要因。为了解决上述课题，具有：不良图案(107)；要因筛选部(102)，其表示观测值与要对策部位的对应；4M潮流判定部(104)，其从潮流中判定4M中的哪个对要因最有影响；以及模型再学习部(105)，其进行学习完成统计模型的再学习，根据现场用户的对策内容和4M信息(101)，使要因推定高精度化。