[发明专利]一种Bi修饰g-C3在审

专利信息
申请号: 202110543359.3 申请日: 2021-05-19
公开(公告)号: CN113198514A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 滕飞;袁晨;梁舒予;阮万生;郝唯一 申请(专利权)人: 南京信息工程大学
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J37/10;C01C1/02
代理公司: 南京钟山专利代理有限公司 32252 代理人: 蒋厦
地址: 210044 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种Bi修饰g‑C3N4光催化剂材料,其制备方法为将三聚氰胺均匀研磨并放入坩埚中煅烧,之后将产物在空气中在再加热2h,然后获得g‑C3N4纳米材料,并标记为CN纳米片;将Bi(NO3)3·5H2O溶解在HNO3溶液中,然后加入乙二醇并搅拌,然后将PVP添加到溶液中,直到所有固体均被溶解为止;完全溶解后,将一定量的所得CN纳米片加入上述溶液中;将混合溶液加入到聚四氟乙烯内衬中,进行水热反应,反应结束后,自然冷却至室温,离心、洗涤、干燥,产物即为Bi修饰g‑C3N4。本发明的Bi修饰g‑C3N4光催化剂材料,其制作方法简易、成本低廉、重现性高,可见光下体现良好固氮性能。
搜索关键词: 一种 bi 修饰 base sub
【主权项】:
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