[发明专利]菲林片、金属网格制备方法及金属网格在审
申请号: | 202110544125.0 | 申请日: | 2021-05-18 |
公开(公告)号: | CN113176702A | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 苏伟;胡守荣;叶宗和 | 申请(专利权)人: | 深圳市志凌伟业光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/70 | 分类号: | G03F1/70 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 郝怀庆 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道大富*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种菲林片、金属网格制备方法及金属网格,其中,菲林片,包括:菲林片本体;以及网格层,所述网格层包括设于所述菲林片本体的表面的线路部分和网格部分,所述线路部分包括多条线路、由多条所述线路相交形成的多个交点、及设于所述线路上的断点,所述网格部分包括多个由所述线路围合形成的网格,所述断点数量为多个,多个所述断点呈折线状排布,所述交点周围的所述断点数量为3个以下。本发明技术方案能够消除金属网格透明导电膜的蚀刻痕,提示显示效果。 | ||
搜索关键词: | 菲林片 金属 网格 制备 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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