[发明专利]光学基片的制作方法及光学基片在审

专利信息
申请号: 202110546260.9 申请日: 2021-05-19
公开(公告)号: CN115368028A 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 郭林;唐怀;伍斯中;段艳松 申请(专利权)人: 深圳市中光工业技术研究院
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34;C03C17/36;G02B1/10
代理公司: 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) 44351 代理人: 刘云青
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种光学基片的制作方法,包括:提供母板基片;对母板基片的部分区域镀膜以制作光学玻璃基片,其中,镀膜的母板基片形成光学玻璃基片的光学窗口部,未镀膜的母板基片形成光学玻璃基片的基片主体部,基片主体部具有相背的第一表面和第二表面。在基片主体部的第一表面形成金属层。机械切割金属层以移除部分金属层。从第二表面激光切割,以形成多个光学基片。本发明提供的光学基片的制作方法,通过机械切割移除部分第一表面的金属层,以及激光切割与第一表面对应的第二表面,提升了光学基片的良率以及生产效率。本发明还提供一种光学基片。
搜索关键词: 光学 制作方法
【主权项】:
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