[发明专利]一种金属纳米片的制备方法有效
| 申请号： | 202110547716.3 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113385680B | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 温嘉红;赵晓宇;杨志峰;王雅新;张永军 | 申请（专利权）人： | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | B22F9/06 | 分类号： | B22F9/06;B22F1/054;B82Y40/00;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/20;C23C14/22;C23C14/35;C23C14/58;G01N21/65 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 何俊 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明涉及纳米复合材料合成技术领域，针对金属纳米片构筑步骤繁琐、制备周期长的问题，提供一种金属纳米片的制备方法，先在硅衬底上自组装出密排的PS胶体球阵列，得到有序PS胶体球阵列模板；再在表面磁控溅射一层金属膜，形成金属纳米帽子阵列(MFON)；然后在表面继续溅射氧化物薄膜，重复溅射金属膜和氧化物薄膜0‑9次得到纳米柱[M/(X |
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| 搜索关键词： | 一种 金属 纳米 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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