[发明专利]高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统在审
| 申请号： | 202110553332.2 | 申请日： | 2021-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN113275589A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 陈箫箫;林胜乐;高利 | 申请（专利权）人： | 亚芯半导体材料（江苏）有限公司 |
| 主分类号： | B22F9/30 | 分类号： | B22F9/30;B22F1/00;C23C14/34;C23C16/14 |
| 代理公司： | 常州市权航专利代理有限公司 32280 | 代理人： | 赵慧 |
| 地址： | 213000 江苏省常州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于溅射靶材技术领域，具体涉及一种高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统。其中，所述高纯度钛粉的制备方法，采用气相沉积法，将钛的卤化物加热分解，以制得高纯度钛粉。本发明通过采用气相沉积的方法制得高纯度钛粉，并将该高纯度钛粉直接用于钨钛溅射靶材的制备，不仅提高了钨钛溅射靶材的纯度，还避免了钛粉与氧反应导致氧含量升高；本发明制得的钨钛溅射靶材的纯度不低于99.999％，氧含量不超过300ppm，纯度和氧含量远高于目前市场上的产品，完全满足电子行业的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 纯度 钛合金 溅射 制备 方法 系统 | ||
【主权项】：
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