[发明专利]一种半导体电迁移测试电路及测试方法在审
申请号: | 202110562617.2 | 申请日: | 2021-05-24 |
公开(公告)号: | CN113030685A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 田文星;吴启熙;宋佳华 | 申请(专利权)人: | 晶芯成(北京)科技有限公司 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 林凡燕 |
地址: | 102199 北京市大兴区经济技术开发*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种半导体电迁移测试电路及测试方法,所述半导体测试电路包括:若干个金属测试线;多级电流源模块,包括若干个晶体管,其设置在所述金属测试线的一侧,且连接所述金属测试线的一端;若干个测试点,包括至少四个焊盘,其设置在所述多级电流源模块与所述金属测试线的两端。将若干个金属测试线放置在所述测试点上,并在所述多路比例电流源的一端施加总电流,形成所述多路比例电流源的输出电流,获得相对应所述金属测试线的输入电流;检测每个所述金属测试线两端的电阻值;根据所述输入电流和所述电阻值,获得所述金属测试线的电迁移。通过本发明提供的一种半导体电迁移测试电路及测试方法,提高测试效率,有效评估不同宽度的金属层电迁移。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 迁移 测试 电路 方法 | ||
【主权项】:
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