[发明专利]可防误溅射的物理气相沉积设备

摘要

本发明提供一种可防误溅射的物理气相沉积设备，包括腔体、溅射装置、基座、伸缩遮挡模块及伸缩驱动机构；基座和伸缩遮挡模块位于腔体内，且伸缩遮挡模块位于溅射装置和基座之间，包括多个不同内径的可动遮蔽环，多个可动遮蔽环自上而下设置，各可动遮蔽环由2个位于同一平面的半圆环形可动遮挡部构成，各可动遮挡部与伸缩驱动机构相连接；当同一可动遮蔽环的2个可动遮挡部相互接触时构成无缝闭合的环形体，环形体的中心显露出晶圆的镀膜区域，以对晶圆进行边缘遮挡。本发明在物理气相沉积设备内设计多个内径不同的可动遮蔽环，各可动遮蔽环可以根据不同的需要闭合，以实现对晶圆边缘不同范围的遮挡，有助于提高镀膜品质和降低设备成本。