[发明专利]晶片检查装置和晶片检查方法

摘要

本发明提供晶片检查装置和晶片检查方法，精密地判定晶片的内部的改质层的形成状态。晶片检查装置具有：保持工作台，其能够在使晶片的背面侧向上方露出的状态下对晶片进行保持；点光源，其发出向保持工作台所保持的晶片的背面侧照射的光；和拍摄单元，其对从点光源发出并照射到晶片的背面上的光的反射光进行拍摄，拍摄单元包含：成像透镜，其面对保持工作台所保持的晶片；分光器，其被定位于成像透镜的成像点；和照相机，其配设在由分光器分支的第一光路上，点光源配设在由分光器分支的第二光路上，在第二光路上配设有准直透镜和聚光透镜，准直透镜将从点光源发出的光生成为平行光，聚光透镜将由准直透镜生成的平行光聚光于分光器。