[发明专利]一种F掺杂的CBO纳米棒阵列光电阴极材料的制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202110579182.2 申请日: 2021-05-26
公开(公告)号: CN113308711B 公开(公告)日: 2022-08-26
发明(设计)人: 马德琨;李自新;武翔;郭长莲;徐全龙;齐陈泽 申请(专利权)人: 绍兴文理学院;温州大学
主分类号: C25B11/091 分类号: C25B11/091;C25B11/054;B82Y40/00;C25B1/30;C25B1/55
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤牡丹
地址: 312000 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种F掺杂的CBO纳米棒阵列光电阴极材料的制备方法,所述方法包括合成CBO种子层;使用CBO种子层合成CBO纳米棒阵列光电阴极;合成F掺杂的CBO纳米棒阵列光电阴极,将步骤S2中得到的CBO纳米棒阵列光电阴极放入NaF溶液中浸泡2h,取出烘干,300℃退火1h后得到F掺杂的CBO纳米棒阵列光电阴极材料。本发明有益效果在于:所需原料绿色无毒、来源丰富,制备方法重复性好,可大规模合成;本发明制备的材料可用于光电催化还原O2生产H2O2,反应高效,操作简单,制备的材料稳定性好,具有很好的实用价值和应用前景。
搜索关键词: 一种 掺杂 cbo 纳米 阵列 光电 阴极 材料 制备 方法 应用
【主权项】:
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