[发明专利]一种旋转结构的制备方法在审
| 申请号： | 202110582001.1 | 申请日： | 2021-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN113307224A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 刘京;焦继伟;费跃;陈思奇 | 申请（专利权）人： | 上海芯物科技有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种旋转结构的制备方法，包括：提供衬底和掩膜版，掩膜版包括第一曝光口和第二曝光口；通过掩膜版对所述衬底进行掩模曝光的同时匀速移动衬底，以在衬底上形成斜坡结构，斜坡结构包括第一斜坡面和第二斜坡面；制备可旋转结构和电极结构，电极结构包括第一电极和第二电极，第一电极与斜坡结构电连接，第二电极与可旋转结构电连接，可旋转结构用于根据第一电极和第二电极之间的静电力进行旋转。利用移动光刻的方法制备斜坡结构，斜坡结构制备简单，解决现有技术中通过多次光刻工艺制备斜坡结构工艺复杂的技术问题；同时利用移动光刻的方法制备斜坡结构时，斜坡结构的倾斜角度可调，斜坡结构制备灵活。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
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