[发明专利]一种基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶及其制备方法在审
| 申请号： | 202110587445.4 | 申请日： | 2021-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN113189844A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 伍淼;罗鹏;王勇;孙华伟 | 申请（专利权）人： | 广州一新科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075 |
| 代理公司： | 广州云领专利代理事务所(普通合伙) 44441 | 代理人： | 张莲珍 |
| 地址： | 510000 广东省广州市开*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于笼状聚倍半硅氧烷的负性光刻胶，所述负性光刻胶包括带八个反应双键的笼状聚倍半硅氧烷、辅助树脂、引发剂和溶剂。本发明的负性光刻胶以带有八个反应双键的笼状聚倍半硅氧烷为主体材料，其具有8个反应活性基团使得材料具有反应速率快、交联密度高的特性。同时，结合无机笼状内核的引入使得具有极好的感度、解析度、热稳定性和机械强度，另外有机无机杂化的结构可有效提高与基材的附着力，提高图形的保持度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 笼状聚倍半硅氧烷 光刻 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州一新科技有限公司，未经广州一新科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110587445.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
