[发明专利]一种提高激光淬火层深度的激光淬火工艺在审
| 申请号： | 202110589486.7 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN113278768A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 何建方;刘少彬;马万花;刘汉杰;高龙;信成飞 | 申请（专利权）人： | 丹阳宏图激光科技有限公司 |
| 主分类号： | C21D1/09 | 分类号： | C21D1/09 |
| 代理公司： | 常州万为知识产权代理事务所(普通合伙) 32441 | 代理人： | 袁程斌 |
| 地址： | 212300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高激光淬火层深度的激光淬火工艺，通过缩短准直长度，可以有效增大进光光斑，通过增大积分镜的面积，可有效在同等时间内增加光斑区受热时间，通过降低移动速度，可以有效延长光斑在加热区的受热时间，增强加热深度，有效提高淬火层深度，上述工艺参数的调整，获得的激光淬火硬化层深度由原工艺0.8～1.5mm可以提高到2.2‑2.5mm，实现激光淬火硬化层深度提升。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 激光 淬火 深度 工艺 | ||
【主权项】：
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