[发明专利]脉冲激光沉积装置及方法在审
| 申请号： | 202110591239.0 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN113445007A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 冯中沛;金魁;袁洁;许波;赵忠贤 | 申请（专利权）人： | 松山湖材料实验室 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/50;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;梁燕飞 |
| 地址： | 523808 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种脉冲激光沉积装置，包括：反应腔，内部设置有用于固定基片台的支撑柱，位于基片台上方的第一加热元件和位于基片台下方的第二加热元件；多个靶机，靶机的第二端固定有靶材，靶材位于反应腔内的基片台的上方和/或下方，靶材的表面与基片台的表面形成夹角；多个激光装置，多个激光装置分别产生激光束，其中，第一加热元件和第二加热元件上分别具有缺口，激光束沿平行于基片台表面的方向直线到达靶材表面，激光束照射靶材表面形成的等离子体经由第一加热元件和第二加热元件上的缺口到达基片台表面。本申请的脉冲激光沉积装置，采用的双面斜对称沉积工艺，可以在基片台的双面都进行薄膜沉积，实现了大面积、大批量、高质量的薄膜制备。 | ||
| 搜索关键词： | 脉冲 激光 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松山湖材料实验室，未经松山湖材料实验室许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110591239.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
