[发明专利]照明装置、缺陷检测系统、光刻机以及缺陷检测方法在审
| 申请号： | 202110592434.5 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN115406894A | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 杨晓青;韩雪山;张一志;申永强;顾杰 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/94;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 郑星 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种照明装置、缺陷检测系统、光刻机以及缺陷检测方法。其中，所述光照单元用于提供线状光照。所述光调整单元用于调整所述光照的发散角至预设值。所述光分割单元用于将经光调整单元后的所述光照分割为至少两束子光照。所述至少两束子光照交错分布且光强相互叠加形成的光斑包括呈平顶高斯分布的光斑。因此，本发明通过所述光调整单元来增大所述光照的发散角至预设值，以在有限的空间中实现远心照明，提高缺陷检测精准度。并通过光分割单元形成的所述光斑，以保证在一定方向上部分光强的均匀，避免内部运动以及外界振动导致光强不均匀不稳定，以引起对缺陷检测的影响，进而保证了缺陷检测系统的高精准度，有利于提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 照明 装置 缺陷 检测 系统 光刻 以及 方法 | ||
【主权项】：
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