[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202110597509.9 | 申请日： | 2018-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN113451100A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 伊藤智 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J27/16;H01L21/3065;H01L21/67;C23C16/517;C23C16/507;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置(10)具备腔室(11)、气体供给源(44)、天线(54)以及多个保持部(55)。腔室(11)在内部具有空间，利用在空间内生成的等离子体对被搬入到空间内的半导体晶圆(W)进行处理。气体供给源(44)向腔室(11)的空间内供给处理气体。天线(54)具有卷绕两圈以上的线路(540)，通过由在线路(540)中流动的电流在腔室(11)的空间内形成的感应电场来在空间内生成等离子体。各个保持部(55)保持天线(54)的线路(540)。另外，保持部(55)以与相邻的其它保持部(55)之间形成规定距离以上的间隙的方式配置于天线(54)的线路(540)。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110597509.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
