[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板及液晶显示面板有效
| 申请号： | 202110598333.9 | 申请日： | 2021-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN113327892B | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 刘凯军;周佑联;刘振;许哲豪;郑浩旋 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司;北海惠科光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人： | 高星 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一种阵列基板的制备方法、阵列基板及液晶显示面板，涉及显示技术领域，该阵列基板的制备方法，包括：在衬底基板上依次沉积第一金属层和多薄膜层，进行第一道光刻工艺，形成第一金属图案层以及位于第一金属图案层上的多薄膜图案层；沉积光阻层，从衬底基板远离第一金属图案层的一侧，以第一金属图案层为第一掩膜板，进行第二道光刻工艺，去除与衬底基板接触的光阻层，形成光阻图案层；沉积第一绝缘层，剥离光阻图案层以及位于光阻图案层远离衬底基板一侧的第一绝缘层。该制备方法通过将第一次光刻工艺后刻蚀出来的第一金属图案层作为第二道光刻工艺的掩膜板来使用，从而可以节省一道掩膜板，达到降低阵列基板的制造成本的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 制备 方法 液晶显示 面板 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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