[发明专利]曝光用光源、光照射装置、曝光装置及曝光方法在审
| 申请号： | 202110599860.1 | 申请日： | 2021-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN113917788A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 井上智彦;山下健一;渡边加名;池田富彦 | 申请（专利权）人： | 凤凰电机公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 龚敏;王刚 |
| 地址： | 日本国兵库*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种曝光用光源、光照射装置、曝光装置及曝光方法，通过不仅照射波长较长的光，还充分照射波长较短的光，能够使含有引发剂的抗蚀剂更均匀地曝光。曝光用光源(12)由第一光源(20)和第二光源(22)构成，该第一光源(20)具有LED(30)，该第二光源(22)由放射波长比从第一光源(20)中的LED(30)放射的LED光的波长短的光的光源(32)构成。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 用光 照射 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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